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  • 檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "化學工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="退火"


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    1

    大面積射頻電漿輔助化學氣相沉積系統製備氫化非晶矽膜作為矽晶鈍化層之研究
    • /105/ 碩士
    • 研究生: 廖苡良 指導教授: 洪儒生
    • 本研究係在以較大面積(20×20 cm2)之射頻電漿輔助化學氣相沉積系統中,通入矽甲烷原料以不同製程條件於單晶矽表面沉積氫化非晶矽形成異質接合結構。研究重點在探究在此一沉積系統中氫化晶矽的鍍…
    • 點閱:335下載:2

    2

    使用氫化非晶鍺薄膜作為鍺晶異質接合鈍化層之研究
    • /107/ 碩士
    • 研究生: 吳篤學 指導教授: 洪儒生
    • 本論文針對鍺晶低能隙的特性,開發以鍺晶為基板之鍺晶異質接合太陽能電池,研究重點在比較射頻電漿輔助化學氣相沉積氫化非晶矽以及氫化非晶鍺薄膜來鈍化矽晶或鍺晶表面之效果。實驗以反射式高能電子繞射儀觀察非晶…
    • 點閱:299下載:0
    • 全文公開日期 2023/09/14 (校內網路)
    • 全文公開日期 2028/09/14 (校外網路)
    • 全文公開日期 2028/09/14 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    3

    陽極氧化阻障層之Mott-Schottky分析及其退火後對再微弧氧化的影響
    • /107/ 碩士
    • 研究生: 羅浩仁 指導教授: 蔡大翔
    •   鋁金屬的電化學成膜為一自身限制的程序,氧化層形成電流的阻障以保護內部金屬,剛生成的阻障層存在著缺陷,因此使成膜後期的電流不為零,由Mott-Schottky分析得知,退火及腐蝕處理步驟可改變此阻…
    • 點閱:231下載:1

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    脈衝高頻電漿輔助化學氣相沉積氫化非晶矽膜作為矽晶鈍化層之研究
    • /104/ 碩士
    • 研究生: 簡郡輝 指導教授: 洪儒生
    • 本論文主要目的在探討使用矽甲烷為原料的高頻電漿輔助化學氣相沉積輔以不同製程方式來製備氫化非晶矽薄膜於單晶矽晶片上形成異質接合。研究重點在利用高頻電漿並輔以脈衝調變的技術,找出缺陷最少的氫化非晶矽長膜…
    • 點閱:688下載:4
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